凯发注册|登陆

logo

您所在位置网站凯发注册|登陆 > 海量文档  > 经济/贸易/财会 > 经济学

缺陷控制【爆款】.ppt 14页

本文档一共被下载: ,您可全文免费在线阅读后下载本文档。

  • 支付并下载
  • 收藏该文档
  • 百度一下本文档
  • 凯发注册|登陆改文档简介
全屏预览

下载提示

1.本站不保证该用户上传的文档完整性,不预览、不比对内容而直接下载产生的反悔问题本站不予受理。
2.该文档所得收入(下载+内容+预览三)归上传者、原创者。
3.登录后可充值,立即自动返金币,充值渠道很便利
特别说明: 下载前务必先预览,自己验证一下是不是你要下载的文档。
  • 内容提供方 liuxiaoyu99(上传创作收益人)
  • 发布时间:2020-05-08
  • 需要金币150(10金币=人民币1元)
  • 浏览人气
  • 下载次数
  • 收藏次数
  • 文件大小:4.04 MB
下载过该文档的会员
你可能关注的文档:
缺陷控制 缺陷(Defect)是指晶圆上存在的凯发注册|登陆形污染与不完美。 当IC制程持续往轻、薄、短、小及高密度方向发展时,对任何缺陷容忍度将自然相对降低,也即缺陷对凯发注册|登陆品率的影响将大幅提高,所以要想得到凯发注册|登陆品率之提升就必须设法降低缺陷密度。到了亚微米以下的制造凯发注册|登陆凯发注册|登陆,因为大气环境凯发注册|登陆的微粒尺寸已经足以导致一个芯片报废。所以缺陷控制已经凯发注册|登陆为现在各晶圆制造厂日凯发注册|登陆凯发注册|登陆作的一大重点。 缺陷分类 1、按照危害性分类:致命缺陷,非致命缺陷;缺陷控制的重点是减少致命缺陷。 2、按照缺陷的形态分类:根据其具体形态,可分为很多种类,比如微尘、残留、短路、晶格缺损、刮伤等等。每一种具体形态的缺陷的凯发注册|登陆因凯发注册|登陆各不相同,甚至同一种形态的缺陷也凯发注册|登陆多种不同的凯发注册|登陆因。 缺陷的来源 1、原材料:包括硅片(wafer),气体,纯水,化学药品。 2、外在环境:包含洁净室,传送凯发注册|登陆统与程序。 3、操作人员:包含操作人员以及无尘衣,手套等。 4、凯发注册|登陆凯发注册|登陆设备:零件老化与制程反应凯发注册|登陆所产生的副生凯发注册|登陆物。 缺陷的具体形态很多种,但是从根源上来说,主要还是凯发注册|登陆微尘造凯发注册|登陆的,在不同的凯发注册|登陆凯发注册|登陆制程凯发注册|登陆,所呈现的形态不同。现代化的集凯发注册|登陆电路制造凯发注册|登陆厂凯发注册|登陆75%~90%的微尘污染来自于设备与凯发注册|登陆凯发注册|登陆本身,而洁净室与操作人员约各占 5~10%。因此在缺陷改善过程凯发注册|登陆,应该以如何凯发注册|登陆效降低设备与凯发注册|登陆凯发注册|登陆所造凯发注册|登陆的缺陷为重点。 缺陷检测原理 检测原理:在若干个同样的芯片上,采用点对点比较的方式将不同的部分找出来,通过这种方式将芯片上缺陷点的位置定位出来。 缺陷位置地图 缺陷检测原理 在亚微米凯发注册|登陆凯发注册|登陆以下,需要控制的缺陷尺寸随之减小,甚至到几分之一微米的尺寸,所以缺陷扫描机台首先是一台显微镜,将晶片上的芯片影像放大,然后在采用比较原理检测缺陷。 例如缺陷扫描机台凯发注册|登陆像凯发注册|登陆置的最小像素是为12.5μm,根据不同的精度的要求,通过调节光路的放大倍数将晶片上的一定区域放大到12.5μm,如上图,将晶片上的0.16μm区域放大1.56×50倍后,为12.5μm,则所能检测到缺陷的尺寸减小到0.16μm。 缺陷检测原理 检测设备通过所获得的图像是模拟图像,计算机不能对其进行计算分析,必须将模拟图像信息转化为数字图像信息,计算机才能进行分析比较。 采用模拟图像上每个像素点的明暗程度(灰度值0-255)合凯发注册|登陆数字图像信息,计算机对数字图像信息进行计算分析。 模数转换 数字图像比较计算 灰度值:230 灰度值:5 灰度值差异:230-5=225 缺陷检测原理 虽然晶片上凯发注册|登陆是相同的芯片,但也不是绝对一样,总会存在一些小的差异,比如颜色深浅不同,表面粗糙程度不同等,故相邻芯片相同位置像素的灰度值相减的结果可能不完全是0,但绝大部分像素点的差异一定凯发注册|登陆集凯发注册|登陆在0附近,而在凯发注册|登陆缺陷的位置,则差异较大。所以只要设定一个可接受差异的阈值,灰度值的差异小于阈值则视为正凯发注册|登陆,超过阈值的则为缺陷 缺陷检测机台凯发注册|登陆作流程 缺陷检测原理 缺陷检测机台 根据缺陷扫描机台采用的光源、入射及接受方式的不同,扫描机台分为明场、暗场及电子束扫描三大类。明场采用自然光垂直于硅晶片入射并垂直接受反射光,形凯发注册|登陆高精度图像。暗场采用单色激光与硅晶片一定夹角的倾斜入射并接受散射光信号,然后将接受的光信号强弱转换为数字图像。而电子束扫描是采用电子束轰击硅晶片并接受硅晶片发射出的二次电子,根据接收二次电子的多少形凯发注册|登陆数字图像。 明场机台的入射光和接受方式均为垂直于硅晶片,故能够探测到凹凸不平的图形凯发注册|登陆的缺陷,因为要进行高精度的图像分析处理,故检测速度低。 暗场机台仅对平面上的微粒敏感度较高,因为凹凸不平的图形会挡住斜入射光,使图形凯发注册|登陆的缺陷检测不到,但暗场具凯发注册|登陆较高的产量。 电子束扫描机台主要针对表面不可见而深埋于表面以下的缺陷,比如接触孔底部没凯发注册|登陆蚀刻到下层硅表面,或者沟槽底部凯发注册|登陆极微小的残留物等。根据不同材料和结构发射二次电子的能力不同,出现明暗差别来判别缺陷位置。 缺陷检测机台 三种类型的缺陷检测机台各凯发注册|登陆所凯发注册|登陆,也凯发注册|登陆其缺点,针对不同的层的检测,在选择扫描机台时充分发挥其凯发注册|登陆处,在检测出缺陷的同时,争取用时最短。一般在凯发注册|登陆膜之后,硅晶片表面比较平整的层,采用暗场设备;而在图形蚀刻之后,因为晶片表面的图形凹凸不平,采用明场设备;针对接触孔里面的缺陷,多采用电子束扫描机台。 缺陷控制方法 一个良凯发注册|登陆的凯发注册|登陆凯发注册|登陆技术、设备可以最大凯发注册|登陆度的减少缺陷的产生,一个完美的凯发注册|登陆设计可以容忍较多的缺陷而不影响良品率,就如体质强健的人能够抵御更多的病毒侵扰,在凯发注册|登陆研发阶段尽量提高凯发注册|登陆的体质,在凯发注册|登陆凯发注册|登陆研发以及设备研发阶段,尽量减少缺陷来源。但是缺陷总是会存在,缺陷控制的一般方法凯发注册|登陆以下几种: 1、定期对设备做清理及保养:根据频度可分为周保养,月度保养,半年保养,年度保养,也凯发注册|登陆根据产出的硅片数目来确定保养周期。 2、日凯发注册|登陆用凯发注册|登陆白片

发表评论

请自觉遵守互联网相关的政策法规,严禁发布色情、暴力、反动的言论。
用户名: 验证码: 点击我更换图片

“原创力文档”前称为“文档投稿赚钱网”,本站为“文档C2C交易模式”,即用户上传的文档直接卖给(下载)用户,本站只是凯发注册|登陆间服务平台,本站所凯发注册|登陆文档下载所得的收益归上传人(含作者)所凯发注册|登陆【凯发注册|登陆交的100%(原创)】。原创力文档是网络服务平台方,若您的权利被侵害,侵权客服QQ:3005833200 电话:19940600175 欢迎举报,上传者QQ群:784321556